Verfahren und Vorrichtung zur Berechnung einer Räumlichen Karte im Zusammenhang mit einer Komponente

EP4182757 Art B1 10. April 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4182757
Aktenzeichen: EP21733795
Anmeldetag: 17. Juni 2021
Veröffentlichung: 10. April 2024
Erteilung: 10. April 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von