Blende und Verfahren

EP4194908 Art A1 14. Juni 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4194908
Aktenzeichen
EP21213814
Anmeldetag
10. Dezember 2021
Veröffentlichung
14. Juni 2023
Rechtsraum
EP
IPC
G02B5/00G02B27/10G03F7/00G21K1/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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