Halbleiterbauelement mit Offenem Hohlraum und Herstellungsverfahren dafür

EP4195241 Art A3 21. Juni 2023

Anmelder: NXP USA, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4195241
Aktenzeichen
EP22207770
Anmeldetag
16. November 2022
Veröffentlichung
21. Juni 2023
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/56H01L23/31H01L23/498H01L23/538H01L25/065H01L25/16H01L25/00// H01L23/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
NXP USA, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 NXP USA

US-amerikanische Gesellschaft des Halbleiterkonzerns NXP, die Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation und Industrieelektronik entwickelt.

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