Kombiniertes Verarbeitungsverfahren mit Extrem-Ultraviolettlicht und Plasma auf Atomebene

EP4197966 Art A1 21. Juni 2023

Anmelder: Tianjin University 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4197966
Aktenzeichen: EP20949424
Anmeldetag: 26. November 2020
Veröffentlichung: 21. Juni 2023
Rechtsraum: EP
IPC: B82B3/00B82Y40/00H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tianjin University
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Tianjin University

Die Tianjin University ist eine der ältesten technischen Hochschulen Chinas mit Sitz in Tianjin. Ihr Patentportfolio deckt breit die Elektronik- und Schaltungstechnik ab, ergänzt durch organische Chemie sowie Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik. Anmeldungen sind seit 2002 belegt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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