Verfahren und Vorrichtung zur Bearbeitung eines Substrates mit einem Fokussierten Teilchenstrahl

EP4199035 Art A1 21. Juni 2023

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4199035
Aktenzeichen: EP23155286
Anmeldetag: 26. April 2012
Veröffentlichung: 21. Juni 2023
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/304H01J37/305G03F1/74

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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