System und Verfahren zur Bestimmung des Zielmerkmalsfokus in der Bildbasierten Überlagerungsmetrologie
EP4200599
Art A1
28. Juni 2023
Anmelder: KLA Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4200599
- Aktenzeichen
- EP21876216
- Anmeldetag
- 21. September 2021
- Veröffentlichung
- 28. Juni 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N21/956G01N21/88G03F7/20G06N3/04G06N20/00G06T7/00G06V10/24G06V10/14G06V10/10G06V20/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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