Systeme und Verfahren zur Bildbasierten Musterauswahl

EP4200671 Art B1 3. September 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4200671
Aktenzeichen: EP21752530
Anmeldetag: 29. Juli 2021
Veröffentlichung: 3. September 2025
Erteilung: 3. September 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/00G03F1/36G06N20/00G03F7/20G06F30/30G06N3/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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