Reflektierendes Optisches Element, Beleuchtungsoptik, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zum Bilden einer Schutzschicht

EP4200879 Art A1 28. Juni 2023

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4200879
Aktenzeichen: EP21743436
Anmeldetag: 12. Juli 2021
Veröffentlichung: 28. Juni 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G21K1/06G02B5/08G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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