Membran für Euv-Lithographie

EP4202545 Art A1 28. Juni 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4202545
Aktenzeichen: EP23157200
Anmeldetag: 12. April 2017
Veröffentlichung: 28. Juni 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/24G03F1/62G03F7/20G02B5/20G03B27/72G03F1/82

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von