Elektronenoptische Vorrichtung mit Kompensation von Eigenschaftsschwankungen von Teilstrahlen

EP4202969 Art A1 28. Juni 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4202969
Aktenzeichen: EP21217583
Anmeldetag: 23. Dezember 2021
Veröffentlichung: 28. Juni 2023
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/04H01J37/153H01J37/26H01J37/302

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von