Reinigung nach einer Chemisch-Mechanischen Planarisierung (cmp)

EP4204529 Art B1 14. Mai 2025

Anmelder: Versum Materials US, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4204529
Aktenzeichen: EP21862752
Anmeldetag: 26. August 2021
Veröffentlichung: 14. Mai 2025
Erteilung: 14. Mai 2025
Rechtsraum: EP
IPC: C11D1/37C11D1/83C11D1/72C11D3/20C11D3/37C11D11/00C11D1/14C11D1/24C11D3/04// H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Versum Materials US, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Versum Materials US

Versum Materials US, LLC war ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und -gasen für die Halbleiterfertigung, der 2019 von Merck KGaA übernommen wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Oberflächentechnik, ergänzt um Farben, Klebstoffe und organische Chemie. Anmeldungen erfolgten zwischen 2002 und 2025.

393 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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