Kompaktes Zweidurchgangsinterferometer für ein Planspiegelinterferometer

EP4204758 Art A1 5. Juli 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4204758
Aktenzeichen: EP21743204
Anmeldetag: 20. Juli 2021
Veröffentlichung: 5. Juli 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G01B9/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von