Plasmaätzverfahren und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements

EP4207251 Art B1 6. August 2025

Anmelder: Resonac Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4207251
Aktenzeichen: EP21860948
Anmeldetag: 24. Juni 2021
Veröffentlichung: 6. August 2025
Erteilung: 6. August 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/467H10F71/00C23F1/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Resonac Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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