Membran für die Membran einer Lithographischen Vorrichtung

EP4208755 Art A1 12. Juli 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4208755
Aktenzeichen: EP21755471
Anmeldetag: 5. August 2021
Veröffentlichung: 12. Juli 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/62G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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