System mit Fokussiertem Ionenstrahl und Verfahren zur Korrektur der Abweichung des Sichtfeldes eines Ionenstrahls

EP4216255 Art A1 26. Juli 2023

Anmelder: Jeol Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4216255
Aktenzeichen: EP22213336
Anmeldetag: 14. Dezember 2022
Veröffentlichung: 26. Juli 2023
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/21H01J37/28H01J37/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Jeol Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JEOL

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das wissenschaftliche und industrielle Präzisionsgeräte entwickelt, darunter Elektronenmikroskope, Analysegeräte und Halbleiterfertigungsanlagen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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