Lokal Selektive Bestrahlung eines Arbeitsbereichs mit einer von einer Kreisform Abweichende Strahlform

EP4225524 Art A1 16. August 2023

Anmelder: TRUMPF Laser- und Systemtechnik SE, Trumpf Laser- und Systemtechnik GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4225524
Aktenzeichen: EP21782989
Anmeldetag: 27. September 2021
Veröffentlichung: 16. August 2023
Rechtsraum: EP
IPC: B22F10/366B22F10/28B22F10/85B22F12/45B33Y30/00B33Y50/02B23K26/073

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TRUMPF Laser- und Systemtechnik SE
Trumpf Laser- und Systemtechnik GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Trumpf Laser- und Systemtechnik

Der Anmelder ist eine deutsche Gesellschaft des Maschinenbaukonzerns Trumpf mit Fokus auf Lasertechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Fertigungs- und Drucktechnik, ergänzt durch Kunststofftechnik, Optik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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