Substrathalter, Trägersystem mit einem Substrathalter und Lithografische Vorrichtung

EP4226214 Art A1 16. August 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4226214
Aktenzeichen: EP21765909
Anmeldetag: 20. August 2021
Veröffentlichung: 16. August 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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