Ätzgas, Verfahren zur Herstellung Davon, Ätzverfahren und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements
EP4231333
Art A1
23. August 2023
Anmelder: Resonac Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4231333
- Aktenzeichen
- EP21880010
- Anmeldetag
- 8. Oktober 2021
- Veröffentlichung
- 23. August 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09K13/00H01L21/3065H01L21/311
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Resonac Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
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