Integrierte Trockenverfahren zur Strukturierung von Fotolackmustern mittels Strahlung
EP4235757
Art A3
27. Dezember 2023
Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4235757
- Aktenzeichen
- EP23173688
- Anmeldetag
- 2. Juli 2021
- Veröffentlichung
- 27. Dezember 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/67G03F7/16// G03F7/36G03F7/004G03F7/11G03F7/38
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM Research Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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Vertreten von
-
Mewburn Ellis LLP
Mewburn Ellis LLP · München