Integrierte Trockenverfahren zur Strukturierung von Fotolackmustern mittels Strahlung

EP4235757 Art A3 27. Dezember 2023

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4235757
Aktenzeichen
EP23173688
Anmeldetag
2. Juli 2021
Veröffentlichung
27. Dezember 2023
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/67G03F7/16// G03F7/36G03F7/004G03F7/11G03F7/38
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
LAM Research Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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