Gasreinigungsverfahren, Substratverarbeitungsverfahren, Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements und Substratverarbeitungsvorrichtung

EP4245884 Art A1 20. September 2023

Anmelder: Kokusai Electric Corp. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4245884
Aktenzeichen: EP23154208
Anmeldetag: 31. Januar 2023
Veröffentlichung: 20. September 2023
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/44H01J37/32H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Kokusai Electric Corp.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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