Vorrichtung mit Verwendung mehrerer Geladener Teilchenstrahlen

EP4250334 Art A3 6. Dezember 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4250334
Aktenzeichen
EP23184135
Anmeldetag
22. Dezember 2017
Veröffentlichung
6. Dezember 2023
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/141H01J37/145
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen