Positionierungssystem, Lithographische Vorrichtung, Absolutpositionsbestimmungsverfahren und Vorrichtungsherstellungsverfahren

EP4251947 Art B1 29. Januar 2025

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4251947
Aktenzeichen
EP21799031
Anmeldetag
25. Oktober 2021
Veröffentlichung
29. Januar 2025
Erteilung
29. Januar 2025
Rechtsraum
EP
IPC
G01B9/02001
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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