System für Geladene Teilchen, Verfahren zur Bearbeitung einer Probe unter Verwendung eines Mehrfachstrahls von Geladenen Teilchen
EP4260357
Art B1
1. Januar 2025
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4260357
- Aktenzeichen
- EP21820214
- Anmeldetag
- 25. November 2021
- Veröffentlichung
- 1. Januar 2025
- Erteilung
- 1. Januar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/28H01J37/302H01J37/317
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
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ASML Netherlands B.V · Veldhoven