Schutzschichtbildungsmittel und Herstellungsverfahren für Halbleiterchip
EP4266352
Art B1
7. Januar 2026
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4266352
- Aktenzeichen
- EP21919743
- Anmeldetag
- 27. Dezember 2021
- Veröffentlichung
- 7. Januar 2026
- Erteilung
- 7. Januar 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/78H01L21/308// H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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Plasseraud IP · Paris