Elektronenoptische Säule und Verfahren zum Richten eines Primärelektronenstrahles auf eine Probe

EP4268257 Art A1 1. November 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4268257
Aktenzeichen: EP21823244
Anmeldetag: 29. November 2021
Veröffentlichung: 1. November 2023
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/28H01J37/147H01J37/153H01J37/05

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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