Verfahren zum Reinigen einer Oberfläche eines Bauteils für ein Euv-Lithographiesystem

EP4275096 Art A1 15. November 2023

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4275096
Aktenzeichen: EP22700045
Anmeldetag: 4. Januar 2022
Veröffentlichung: 15. November 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20C23G5/036C23G1/24C23G1/00B08B7/00G01N21/94

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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