Vorrichtung zur Herstellung eines Silizium-Einkristalls und Verfahren zur Unterdrückung von Dislokationen in einem Silizium-Einkristall

EP4276227 Art A3 27. Dezember 2023

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4276227
Aktenzeichen: EP23196910
Anmeldetag: 7. September 2022
Veröffentlichung: 27. Dezember 2023
Rechtsraum: EP
IPC: C30B19/04C30B29/36C30B35/00C30B23/02C30B25/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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