Interferometersystem, Positionierungssystem, Lithografische Vorrichtung, Jitterbestimmungsverfahren und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP4278146
Art A1
22. November 2023
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4278146
- Aktenzeichen
- EP21836466
- Anmeldetag
- 12. Dezember 2021
- Veröffentlichung
- 22. November 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01B9/02001G01B9/02055G01B9/02003G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven