Hochauflösende Elektronenstrahlvorrichtung mit Doppelaperturschemen
EP4281988
Art A1
29. November 2023
Anmelder: KLA Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4281988
- Aktenzeichen
- EP22750194
- Anmeldetag
- 27. Januar 2022
- Veröffentlichung
- 29. November 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/147H01J37/09H01J37/063
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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