Sic-Substrat und Sic-Epitaxialwafer
EP4286568
Art A1
6. Dezember 2023
Anmelder: Resonac Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4286568
- Aktenzeichen
- EP23175775
- Anmeldetag
- 26. Mai 2023
- Veröffentlichung
- 6. Dezember 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B23/06C30B29/36// C30B25/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Resonac Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
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