Dünnschichttransistor und Verfahren zur Herstellung eines Dünnschichttransistors

EP4290586 Art A1 13. Dezember 2023

Anmelder: TOPPAN INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4290586
Aktenzeichen
EP22749854
Anmeldetag
7. Februar 2022
Veröffentlichung
13. Dezember 2023
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/786H01L21/66H01L29/49H01L29/423
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
TOPPAN INC.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toppan Printing

Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.

1.905 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen