Dünnschichttransistor und Verfahren zur Herstellung eines Dünnschichttransistors
EP4290586
Art A1
13. Dezember 2023
Anmelder: TOPPAN INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4290586
- Aktenzeichen
- EP22749854
- Anmeldetag
- 7. Februar 2022
- Veröffentlichung
- 13. Dezember 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/786H01L21/66H01L29/49H01L29/423
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOPPAN INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toppan Printing
Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.
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Plasseraud IP · Paris