C-Mantel-Modifikation für Plasmagleichförmigkeit ohne Auswirkung auf die Mechanische Festigkeit oder Lebensdauer des C-Mantel-Körpers

EP4292118 Art B1 17. Dezember 2025

Anmelder: Lam Research Corporation, LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4292118
Aktenzeichen: EP22753107
Anmeldetag: 14. Januar 2022
Veröffentlichung: 17. Dezember 2025
Erteilung: 17. Dezember 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Lam Research Corporation
LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von