Verfahren zum Ausrichten eines Beleuchtungsdetektionssystems einer Messvorrichtung und Zugehörige Messvorrichtung

EP4296779 Art A1 27. Dezember 2023

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4296779
Aktenzeichen
EP22180144
Anmeldetag
21. Juni 2022
Veröffentlichung
27. Dezember 2023
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20G01N23/201
Offizieller Volltext

Abstract

Disclosed is a method of determining an illumination-detection system alignment of an illumination-detection system describing alignment of at least one detector and/or measurement illumination of a metrology apparatus in terms of two or more illumination-detection system alignment parameters, each illumination-detection system alignment parameter relating to a respective degree of freedom for aligning the detector and/or the measurement illumination. The method comprises obtaining a diffraction pattern relating to diffraction of broadband radiation from a structure; transforming each of one or more diffraction orders of the diffraction pattern to a respective region coordinate system, each region coordinate system comprising a first axis and a second axis, each region coordinate system being such that said first axis is aligned in relation to a direction of an intensity metric of each transformed diffraction order; and determining illumination-detection system alignment parameter values for the illumination-detection system alignment parameters.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen