Maschinenlernmodell mit Verwendung eines Zielmusters und Referenzschichtmusters zur Bestimmung der Optischen Näherungskorrektur für eine Maske

EP4298478 Art A1 3. Januar 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4298478
Aktenzeichen: EP22702948
Anmeldetag: 31. Januar 2022
Veröffentlichung: 3. Januar 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/36G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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