Filmbildungsverfahren und Atmosphärendruckplasmafilmbildungsvorrichtung

EP4299789 Art A1 3. Januar 2024

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4299789
Aktenzeichen: EP22759380
Anmeldetag: 9. Februar 2022
Veröffentlichung: 3. Januar 2024
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/26C23C16/44C23C16/455C23C16/509C23C16/52C23C16/54H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

12.204 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von