Membran für eine Lithographische Vorrichtung und Verfahren

EP4301496 Art A1 10. Januar 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4301496
Aktenzeichen
EP22703631
Anmeldetag
3. Februar 2022
Veröffentlichung
10. Januar 2024
Rechtsraum
EP
IPC
B01D67/00B01D71/02B82Y40/00C01B32/158D01F9/127G03F1/62G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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