Membran für eine Lithographische Vorrichtung und Verfahren
EP4301496
Art A1
10. Januar 2024
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4301496
- Aktenzeichen
- EP22703631
- Anmeldetag
- 3. Februar 2022
- Veröffentlichung
- 10. Januar 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B01D67/00B01D71/02B82Y40/00C01B32/158D01F9/127G03F1/62G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
-
ASML Netherlands B.V
ASML Netherlands B.V · Veldhoven