Hohlkern-Lichtleitfaserbasierte Strahlungsquelle

EP4309000 Art A1 24. Januar 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4309000
Aktenzeichen
EP22704926
Anmeldetag
17. Februar 2022
Veröffentlichung
24. Januar 2024
Rechtsraum
EP
IPC
G02F1/35G02F1/365
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen