Stromlose Kupferplattierung mittels Katalytischer Reaktion
EP4310221
Art A1
24. Januar 2024
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4310221
- Aktenzeichen
- EP22186217
- Anmeldetag
- 21. Juli 2022
- Veröffentlichung
- 24. Januar 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C18/16C23C18/40C23C18/54C23C18/18H01L21/768H01L21/288H05K3/18C23C18/20H01L23/532
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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