Lithographischer Apparat und Verfahren zur Korrektur der Belichtungsuniformität

EP4314947 Art A1 7. Februar 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4314947
Aktenzeichen: EP22707457
Anmeldetag: 24. Februar 2022
Veröffentlichung: 7. Februar 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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