Kontrolle der Metallkontamination von Metallhaltigem Photoresist

EP4314950 Art A1 7. Februar 2024

Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4314950
Aktenzeichen: EP22782195
Anmeldetag: 31. März 2022
Veröffentlichung: 7. Februar 2024
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/02H01L21/027G03F7/004G03F7/30G03F7/36G03F7/40H01J37/32// H01L21/67G03F7/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lam Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von