System und Verfahren zur Bestimmung Lokaler Fokuspunkte Während der Inspektion in einem System mit Geladenen Teilchen

EP4315387 Art A1 7. Februar 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4315387
Aktenzeichen: EP22713558
Anmeldetag: 4. März 2022
Veröffentlichung: 7. Februar 2024
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/26G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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