Verfahren zur Modellierung von Messdaten über einen Substratbereich und Zugehörige Vorrichtungen

EP4320483 Art A1 14. Februar 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4320483
Aktenzeichen: EP22710625
Anmeldetag: 9. März 2022
Veröffentlichung: 14. Februar 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von