Verfahren zur Herstellung eines Spiegels für eine Lithographieanlage

EP4320484 Art B1 5. November 2025

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4320484
Aktenzeichen
EP22716188
Anmeldetag
17. März 2022
Veröffentlichung
5. November 2025
Erteilung
5. November 2025
Rechtsraum
EP
IPC
G02B5/08G02B7/18G03F7/00G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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