Vorrichtung, Verfahren und System zur Verminderung des Verziehens eines Zusammengesetzten Chiplets

EP4325567 Art A1 21. Februar 2024

Anmelder: INTEL Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4325567
Aktenzeichen
EP23185988
Anmeldetag
18. Juli 2023
Veröffentlichung
21. Februar 2024
Rechtsraum
EP
IPC
H01L25/065H01L21/60H01L25/18H01L23/31
Offizieller Volltext

Abstract

Techniques and mechanisms to mitigate warping of a composite chiplet. In an embodiment, multiple via structures each extend through an insulator material in one of multiple levels of a composite chiplet. The insulator material extends around an integrated circuit (IC) component in the level. For a given one of the multiple via structures, a respective annular structure extends around the via structure to mitigate a compressive (or tensile) stress due to expansion (or contraction) of the via structure. In another embodiment, the composite chiplet additionally or alternatively comprises a structural support layer on the multiple levels, wherein the structural support layer has formed therein or thereon dummy via structures or a warpage compensation film.

Anmelder

Firma
INTEL Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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