Steuerung der Aberration in einem Optischen System, Metrologiesystem, Lithografische Vorrichtung und Verfahren dafür

EP4327160 Art A1 28. Februar 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4327160
Aktenzeichen: EP22718989
Anmeldetag: 31. März 2022
Veröffentlichung: 28. Februar 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/00G02B27/00G02B3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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