Laserstrahlmetrologiesystem, Laserstrahlsystem, Euv-Strahlungsquelle und Lithografische Vorrichtung

EP4330626 Art A1 6. März 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4330626
Aktenzeichen: EP22718225
Anmeldetag: 29. März 2022
Veröffentlichung: 6. März 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G01B11/27G03F7/20H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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