Reinigungsverfahren und Zugehörige Lichtquellenmetrologievorrichtung

EP4330768 Art A1 6. März 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4330768
Aktenzeichen: EP22717397
Anmeldetag: 31. März 2022
Veröffentlichung: 6. März 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G02F1/35G03F7/20G02F1/21G02F1/365

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von