Vorrichtung mit Fokussiertem Ionenstrahl

EP4333021 Art A3 13. März 2024

Anmelder: JEOL Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4333021
Aktenzeichen: EP23193877
Anmeldetag: 29. August 2023
Veröffentlichung: 13. März 2024
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/302H01J37/305

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JEOL Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JEOL

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das wissenschaftliche und industrielle Präzisionsgeräte entwickelt, darunter Elektronenmikroskope, Analysegeräte und Halbleiterfertigungsanlagen.

288 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von