Pellikel und Verfahren zur Bildung des Pellikels zur Verwendung in einer Lithografischen Vorrichtung

EP4336258 Art A1 13. März 2024

Anmelder: ASML Netherlands B.V., IMEC vzw 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4336258
Aktenzeichen: EP22195223
Anmeldetag: 12. September 2022
Veröffentlichung: 13. März 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/62

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
IMEC vzw
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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