Verbesserte Ziele für Diffraktionsbasierte Überlagerungsfehlermetrologie

EP4338010 Art A1 20. März 2024

Anmelder: KLA Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4338010
Aktenzeichen
EP22899257
Anmeldetag
6. Oktober 2022
Veröffentlichung
20. März 2024
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
KLA Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

1.908 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen